用于半导体和 ALD 的臭氧

随着晶片结构变得更加复杂,晶片湿法清洗工艺在半导体制造中变得越来越重要。事实上,Absolute Ozone® 已开发出可靠且有效的系统,使半导体臭氧和 ALD 成为湿法清洁和光刻胶去除方法的有吸引力的替代方案。与 RCA 清洁技术相比,臭氧/水清洁工艺成本更低且更环保。臭氧不再仅仅在半导体应用中具...

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